掩膜關鍵尺?(CD) 測量系統(tǒng)

高精度紫外光學量測解決方案，助力先進掩膜制造工藝

MT270UV 是專為半導體掩膜制造中的關鍵尺?(Critical Dimension, CD)測量?設計的?性能光學量測系統(tǒng)，?持最?尺?達9英?的掩膜測量，覆蓋?65nm節(jié)點的先進晶圓制造需求。

該系統(tǒng)采??穩(wěn)定性紫外光源，并對光學測量系統(tǒng)進?深度優(yōu)化，使關鍵尺?測量的重復性優(yōu)于2nm，確保測量結果的?度?致性與可靠性。

憑借超過20年的技術積累與持續(xù)優(yōu)化，MT270UV 已在全球主流掩膜制造企業(yè)實現(xiàn)?泛部署與驗證，成為?業(yè)內公認的標準化關鍵尺?測量設備。其成熟、穩(wěn)定、可靠的性能表現(xiàn)，為掩膜制造過程中的質量控制提供了堅實保障。