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Spector

掩膜關鍵尺寸(CD)測量系統(tǒng)

面向先進掩膜制造的高精度光學量測平臺

Spector是專為半導體掩膜制造中的關鍵尺?(CriticalDimension, CD)測量打造的?端光學量測系統(tǒng),?持?14英?掩膜的?精度測量,全?滿??65nm?藝節(jié)點的掩膜檢測需求。 


系統(tǒng)可選配紫外光源,并對光學器件進?專?優(yōu)化,確保關鍵尺?測量重復性優(yōu)于1.5nm,滿??穩(wěn)定性和??致性的量測要求。


Spector 采?全封閉式設計,?持SMIF傳輸接?和全?動化搬運流程,滿?潔凈環(huán)境下的?動化?產需求。 同時,系統(tǒng)內置標準 SECS/GEM 通訊協(xié)議,便于?縫集成?Fab?動化系統(tǒng),助?客戶實現(xiàn)?度?動化,智能化的掩膜制造流程。


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方案優(yōu)勢

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    高精度量測

    低至1.5nm的量測重復性精度

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    靈活易用

    ?持SMIF,全?動搬運

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    成熟,穩(wěn)定,可靠

    低COO,易維護,無短周期消耗品,長期穩(wěn)定可靠

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