方案優(yōu)勢(shì)
產(chǎn)品參數(shù)
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TZDI-40
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TZDI-35
-
TZDI-25
-
TZDI-12
-
-
平臺(tái)類型
雙臺(tái)面
-
最大曝光尺寸(mm)
630×810
-
基板厚度(mm)
0.025 - 6
-
最小線寬線距(μm)
40
-
量產(chǎn)線寬線距(μm)
60
-
線寬精度
±10%
-
對(duì)位精度(μm)
±12
-
層間對(duì)位精度(μm)
24
-
景深(μm)
±300
-
單機(jī)產(chǎn)能
8.5 秒/ 面 @20mj/cm2
-
自動(dòng)線產(chǎn)能
7 秒/ 片 @20mj/cm2
-
推薦應(yīng)用
MLB( 內(nèi)外層 ),陶瓷基板
-
-
-
平臺(tái)類型
雙臺(tái)面
-
最大曝光尺寸(mm)
630×810
-
基板厚度(mm)
0.025 - 6
-
最小線寬線距(μm)
35
-
量產(chǎn)線寬線距(μm)
50
-
線寬精度
±10%
-
對(duì)位精度(μm)
±10
-
層間對(duì)位精度(μm)
20
-
景深(μm)
±300
-
單機(jī)產(chǎn)能
8.5 秒/ 面 @20mj/cm2
-
自動(dòng)線產(chǎn)能
7 秒/ 片 @20mj/cm2
-
推薦應(yīng)用
MLB( 內(nèi)外層 ),陶瓷基板
-
-
-
平臺(tái)類型
雙臺(tái)面
-
最大曝光尺寸(mm)
630×810
-
基板厚度(mm)
0.025 - 6
-
最小線寬線距(μm)
25
-
量產(chǎn)線寬線距(μm)
40
-
線寬精度
±10%
-
對(duì)位精度(μm)
±10
-
層間對(duì)位精度(μm)
20
-
景深(μm)
±200
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單機(jī)產(chǎn)能
10 秒/ 面 @20mj/cm2
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自動(dòng)線產(chǎn)能
8.5 秒/ 片 @20mj/cm2
-
推薦應(yīng)用
MLB( 內(nèi)外層 ),陶瓷基板
-
-
-
平臺(tái)類型
雙臺(tái)面
-
最大曝光尺寸(mm)
630×810
-
基板厚度(mm)
0.025 - 6
-
最小線寬線距(μm)
12
-
量產(chǎn)線寬線距(μm)
20
-
線寬精度
±10%
-
對(duì)位精度(μm)
±7
-
層間對(duì)位精度(μm)
16
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景深(μm)
±150
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單機(jī)產(chǎn)能
12 秒/ 面 @20mj/cm2
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自動(dòng)線產(chǎn)能
12秒/ 片 @20mj/cm2
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推薦應(yīng)用
IC substrate, SLP
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